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红外图像测试卡

  • USAF1951 中红外分辨率靶标
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USAF1951 中红外分辨率靶标USAF1951 中红外分辨率靶标USAF1951 中红外分辨率靶标

USAF1951 中红外分辨率靶标

  • 品牌:正印科技CcolorSpace
  • 型号:CS-TC-USAF-MWIR
  • 产品描述:USAF 1951 中红外分辨率靶标采用高纯度氟化钙(CaF₂)单晶基底制造的USAF1951中红外分辨率靶标,适用于5233nm(5.23μm)激光系统、红外相机、热像仪、FTIR光谱仪及红外光学检测设备的分辨率评估与成像性能测试。
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USAF 1951 中红外分辨率靶标

氟化钙(CaF₂)USAF1951中红外分辨率靶标专为5233nm(5.23μm)中红外激光系统及相关红外光学设备设计。产品采用高纯度氟化钙单晶基底制造,在3μm~8μm中红外波段具有良好的透射性能,可满足红外成像系统、红外镜头、热像仪、FTIR光谱仪及科研设备的分辨率评估需求。

靶标图案依据USAF1951(MIL-STD-150A)标准制作,覆盖-2至+7组完整测试单元,可用于测量系统空间分辨率、调制传递特性(MTF)以及成像质量评价,为红外光学系统开发、生产测试及实验室研究提供可靠参考。

产品特点

  • 高透射率氟化钙基底:采用高纯度CaF₂单晶材料,透光范围覆盖130nm至9μm,在5233nm波长附近具有良好的透射性能,可满足中红外测试需求。
  • 适用于5233nm中红外激光测试:针对5.23μm激光系统设计,可用于激光光束质量评估、成像分辨率测试及光学系统性能验证。
  • 标准USAF1951测试图案:依据MIL-STD-150A标准加工,提供完整的USAF1951分辨率图案,便于不同系统之间的数据对比与结果分析。
  • 支持定制化设计:支持正片、负片、多种膜层、不同尺寸及厚度规格定制,以满足科研和工业应用需求。

氟化钙 USAF 1951中红外分辨率靶标

CS-TC-USAF-MWIR-P

(中波红外USAF分辨率卡-正片)

氟化钙 USAF1951中红外分辨率靶标

CS-TC-USAF-MWIR-N

(中波红外USAF分辨率卡-负片)


应用场景:

  • 中红外激光系统:5233nm 激光器分辨率标定、功率稳定性测试
  • 红外成像设备:红外相机、热像仪、红外显微镜成像质量评估
  • 光学仪器检测:FTIR 光谱仪、红外镜头模组、半导体红外检测设备校准
  • 科研与工业:航空航天红外探测、医疗红外设备、精密制造质量控制

产品参数:

参数 USAF1951 中红外分辨率靶标
执行标准 USAF1951MIL-STD-150A
基底材料 高纯度氟化钙(CaF₂)单晶
透波范围 130nm 9μm(高透区 38μm
目标波长透过率
未镀膜:>90%@5.23μm;镀增透膜:>95%@5.23μm
折射率
1.40@5μm
图案规格
-2+7 组,每组 6 个单元(线对密度 0.25128 lp/mm
膜层类型
标准铬膜(可见 / 近红外适配)、可选金膜(中红外反射增强)
产品类型
正片(亮线暗背景)/ 负片(暗线亮背景)均可定制
常规尺寸
25×25mm50×50mm100×100mm(其他尺寸可定制)
基底厚度
1mm2mm3mm(按需调整)
机械特性
莫氏硬度 4,化学稳定(不溶于水、耐弱酸)


【实验室预约】更多相关产品及测试服务的信息请联系:sales@colorspace.com.cn

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