氟化钙(CaF₂)USAF1951中红外分辨率靶标专为5233nm(5.23μm)中红外激光系统及相关红外光学设备设计。产品采用高纯度氟化钙单晶基底制造,在3μm~8μm中红外波段具有良好的透射性能,可满足红外成像系统、红外镜头、热像仪、FTIR光谱仪及科研设备的分辨率评估需求。
靶标图案依据USAF1951(MIL-STD-150A)标准制作,覆盖-2至+7组完整测试单元,可用于测量系统空间分辨率、调制传递特性(MTF)以及成像质量评价,为红外光学系统开发、生产测试及实验室研究提供可靠参考。
产品特点
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CS-TC-USAF-MWIR-P (中波红外USAF分辨率卡-正片) |
CS-TC-USAF-MWIR-N (中波红外USAF分辨率卡-负片) |
应用场景:
产品参数:
| 参数 | USAF1951 中红外分辨率靶标 |
| 执行标准 |
USAF1951(MIL-STD-150A) |
| 基底材料 | 高纯度氟化钙(CaF₂)单晶 |
| 透波范围 | 130nm ~ 9μm(高透区 3~8μm) |
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目标波长透过率 |
未镀膜:>90%@5.23μm;镀增透膜:>95%@5.23μm |
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折射率 |
1.40@5μm |
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图案规格 |
-2~+7 组,每组 6 个单元(线对密度 0.25~128 lp/mm) |
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膜层类型 |
标准铬膜(可见 / 近红外适配)、可选金膜(中红外反射增强) |
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产品类型 |
正片(亮线暗背景)/ 负片(暗线亮背景)均可定制 |
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常规尺寸 |
25×25mm、50×50mm、100×100mm(其他尺寸可定制) |
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基底厚度 |
1mm、2mm、3mm(按需调整) |
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机械特性 |
莫氏硬度 4,化学稳定(不溶于水、耐弱酸) |
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